Импульсный ионный ускоритель ТЕМП

Импульсный ионный ускоритель ТЕМП предназначен для обработки материалов в целях модификации свойств приповерхностных слоев и тонкопленочных покрытий (упрочнение приповерхностных слоев металлов, синтез новых в т.ч. нанокомпозитных материалов, повышение растворимости примесей в кристаллах). Поскольку доза ионов, водимых за один импульс, не превышает 10¹⁴ см^-2, то такая обработка не приводит к заметному примесному легированию образцов. Обработка имеет энергетический характер воздействия, приводящий к быстрому нагреву вплоть до плавления и быстрому охлаждению приповерхностной области (до 10 мкм). Воздействие аналогично лазерной обработке, однако из-за более однородного выделения энергии по глубине метод позволяет избежать перегрева и разрушения поверхности.

Параметры ускорителя:

• состав пучка: C⁺ – 80%, H⁺ – 20%;
• энергия ионов: Е = 300 кэВ;
• длительность импульса: = 50 нс;
• ток пучка: I < 10 кA;
• плотность тока: j < 200 А/см²;
• плотность энергии: W < 3 Дж/см²
  

Камера ускорителя.