Конференции, проводимые по тематике КФТИ КазНЦ РАН

 
20-24 августа 2015 / 22-я Международная конференция  "Взаимодействие ионов  с  поверхностью"  (ВИП-2015)

20-24 августа 2015 / 22-я Международная конференция "Взаимодействие ионов с поверхностью" (ВИП-2015)

Россия, г. Москва, Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ». Web


Последний срок предоставления:
Анкеты участника конференции - 15 января 2015 г.
Тезисов докладов - 15 марта 2015 г. продлен до 22 марта 2015 г.
Уведомление о приеме докладов - 20 апреля 2015 г.
Рукописей статей в материалы конференции - 20 августа 2015 г.

Имеется новая информация относительно проживания в гостиницах.
Мы рекомендуем участникам конференции останавливаться в ближайшем к МИФИ отеле - "Интурист-Коломенское". Он расположен в пяти минутах ходьбы от места проведения конференции. Доступны одноместные и двухместные номера, завтрак включен в стоимость проживания. Забронировать номер в этом отеле нужно самостоятельно, на сайте http://www.intourist-kolomenskoe.ru/ При бронировании укажите промо-код "ISI2015" (без кавычек), чтобы получить скидку как участник конференции.

Другой вариант размещения - проживание в общежитии МИФИ (ул. Москворечье, дом 2). Проживание возможно в двухместных номерах, стоимостью около 400 руб. с человека за ночь, одна ванная комната на несколько жилых комнат. Общежитие расположено в 15 минутах ходьбы от МИФИ. Если вы хотите жить в общежитии, заранее свяжитесь с организационным комитетом.

Приглашение ВИП-2015

ПРЕДВАРИТЕЛЬНЫЙ СПИСОК ПРИГЛАШЕННЫХ ДОКЛАДЧИКОВ

1. Friedrich Aumayr Vienna University of Technology (TU Wien), Austria

Interaction of slow highly charged ions with ultrathin carbon nanomembranes and graphene

2. Lothar Bischoff Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany

Surface modification with heavy mono- and polyatomic ions

3. Iva BogdanovićRadović RudjerBoškovićInstitute , Croatia

MeV ions - a tool for formation and ordering of semiconductor and metal QD in thin amorphous layers

4. Stefan Facsko Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany

Spontaneous pattern formation on ion irradiated semiconductor surfaces

5. Thomas Greber University of Zurich, Switzerland

Low energy ion implantation beneath 2D materials like boron nitride or graphene: Nanotents and "Can opener" effect

6. Xiao-Tao Hao Shandong University, China

Hydrogenated oxide semiconductor films by sputtering

7. GregorHlawacek Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany

High resolution surface patterning with the Helium Ion Microscope

8. Brandon Holybee University of Illinois at Urbana-Champaign, USA

Investigating the chemical and structural evolution of III-V semiconductors under pre-pattern formation ion irradiation processes

9. Kenji Kimura Kyoto University, Japan

Transmission secondary ion mass spectrometry of biomolecules using MeV C60 ions

10. Eli Kolodney Technion - Israel Institute of Technology, Israel

Surface sputtering by fullerene ion beams - velocity correlated cluster emissionion beams

11. FranciszekKrok Jagiellonian University, Poland

Pillars formation on compound semiconductor surfaces under focused and broad ion beam irradiation

12. Sergei Kucheyev Lawrence Livermore National Laboratory, USA

Dynamics of radiation damage production studied by pulsed ion beams

13. Thomas Michely University of Cologne, Germany

New phenoma in 2D-layer irradiation with low energy ions

14. Paolo Milani University of Milano, Italy

Supersonic cluster beam implantation in polymers: a novel tool for stretchable electronics and optics

15. Kai Nordlund Helsinki University, Finland

Ion irradiation of Si, GaN and Au nanowires: order-of-magnitude enhancements of damage production and sputtering

16. Vladimir Popok Aalborg University, Denmark

Low-energy interaction of metal cluster ions with surfaces

17. Philippe Roncin Université Paris-Sud, France

Grazing incidence Fast Atom Diffraction on surfaces

18. Mike Russel University of Pretoria, South Africa

Non-linear transport of energy in thin films and surface interactions

19. Toshio Seki Kyoto University, Japan

Imaging mass spectrometry with heavy MeV-energy ion beams

20. Tomᚊkereň Czech Technical University in Prague, Czech Republic

Ion induced nanopatterning of metals

21. Christina Trautmann GSI HelmholzCenter, Germany

Sputtering in the electronic energy loss regime

22. Roger Webb University of Surrey, UK

Ambient pressure MeV-SIMS system



Возврат к списку