Научная деятельность Доп. раздел |
Конференции, проводимые по тематике КФТИ КазНЦ РАН20-24 августа 2015 / 22-я Международная конференция "Взаимодействие ионов с поверхностью" (ВИП-2015)Россия, г. Москва, Национальный исследовательский ядерный университет «МИФИ». Web Последний срок предоставления:
Анкеты участника конференции - 15 января 2015 г. Тезисов докладов - 15 марта 2015 г. продлен до 22 марта 2015 г. Уведомление о приеме докладов - 20 апреля 2015 г. Рукописей статей в материалы конференции - 20 августа 2015 г. Имеется новая информация относительно проживания в гостиницах.
Мы рекомендуем участникам конференции останавливаться в ближайшем к МИФИ отеле - "Интурист-Коломенское". Он расположен в пяти минутах ходьбы от места проведения конференции. Доступны одноместные и двухместные номера, завтрак включен в стоимость проживания. Забронировать номер в этом отеле нужно самостоятельно, на сайте http://www.intourist-kolomenskoe.ru/ При бронировании укажите промо-код "ISI2015" (без кавычек), чтобы получить скидку как участник конференции. Другой вариант размещения - проживание в общежитии МИФИ (ул. Москворечье, дом 2). Проживание возможно в двухместных номерах, стоимостью около 400 руб. с человека за ночь, одна ванная комната на несколько жилых комнат. Общежитие расположено в 15 минутах ходьбы от МИФИ. Если вы хотите жить в общежитии, заранее свяжитесь с организационным комитетом. ПРЕДВАРИТЕЛЬНЫЙ СПИСОК ПРИГЛАШЕННЫХ ДОКЛАДЧИКОВ 1. Friedrich Aumayr Vienna University of Technology (TU Wien), Austria Interaction of slow highly charged ions with ultrathin carbon nanomembranes and graphene 2. Lothar Bischoff Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany Surface modification with heavy mono- and polyatomic ions 3. Iva BogdanovićRadović RudjerBoškovićInstitute , Croatia MeV ions - a tool for formation and ordering of semiconductor and metal QD in thin amorphous layers 4. Stefan Facsko Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany Spontaneous pattern formation on ion irradiated semiconductor surfaces 5. Thomas Greber University of Zurich, Switzerland Low energy ion implantation beneath 2D materials like boron nitride or graphene: Nanotents and "Can opener" effect 6. Xiao-Tao Hao Shandong University, China Hydrogenated oxide semiconductor films by sputtering 7. GregorHlawacek Helmholtz-Zentrum Dresden-Rossendorf, Germany High resolution surface patterning with the Helium Ion Microscope 8. Brandon Holybee University of Illinois at Urbana-Champaign, USA Investigating the chemical and structural evolution of III-V semiconductors under pre-pattern formation ion irradiation processes 9. Kenji Kimura Kyoto University, Japan Transmission secondary ion mass spectrometry of biomolecules using MeV C60 ions 10. Eli Kolodney Technion - Israel Institute of Technology, Israel Surface sputtering by fullerene ion beams - velocity correlated cluster emissionion beams 11. FranciszekKrok Jagiellonian University, Poland Pillars formation on compound semiconductor surfaces under focused and broad ion beam irradiation 12. Sergei Kucheyev Lawrence Livermore National Laboratory, USA Dynamics of radiation damage production studied by pulsed ion beams 13. Thomas Michely University of Cologne, Germany New phenoma in 2D-layer irradiation with low energy ions 14. Paolo Milani University of Milano, Italy Supersonic cluster beam implantation in polymers: a novel tool for stretchable electronics and optics 15. Kai Nordlund Helsinki University, Finland Ion irradiation of Si, GaN and Au nanowires: order-of-magnitude enhancements of damage production and sputtering 16. Vladimir Popok Aalborg University, Denmark Low-energy interaction of metal cluster ions with surfaces 17. Philippe Roncin Université Paris-Sud, France Grazing incidence Fast Atom Diffraction on surfaces 18. Mike Russel University of Pretoria, South Africa Non-linear transport of energy in thin films and surface interactions 19. Toshio Seki Kyoto University, Japan Imaging mass spectrometry with heavy MeV-energy ion beams 20. Tomᚊkereň Czech Technical University in Prague, Czech Republic Ion induced nanopatterning of metals 21. Christina Trautmann GSI HelmholzCenter, Germany Sputtering in the electronic energy loss regime 22. Roger Webb University of Surrey, UK Ambient pressure MeV-SIMS system
| ||